机译:H2O2和HF溶液循环处理对硅表面粗糙度的影响。
机译:HF / H2O2溶液中胶态金纳米颗粒诱导的硅纳米孔结构的形成
机译:等离子体刻蚀和刮擦硅表面处理对HFCVD中生长的金刚石成核的影响-对比研究
机译:H2O2,Cu(NO3)(2)和HF温度对钻石线锯多晶硅晶片表面纹理化的影响
机译:等离子体蚀刻硅表面处理对HFCVD-A比较研究中生长的核核化合物的影响
机译:表面粗糙度和界面层对(3)碳-碳化硅/硅的IR反射率的影响。
机译:用酸溶液进行表面处理对表面的影响钇四方氧化锆多晶体的粗糙度
机译:表面处理对沉积LpCVD多晶硅薄膜晶粒度和表面粗糙度的影响
机译:HF和HCl溶液清洗Ge(100)的表面终止和粗糙度