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机译:偏置电压对磁控溅射制备Ti:Si-掺杂C-H的Ti:Si薄膜的组成,结构和性能的影响
机译:施加偏压对磁控溅射制备Ti:Si-掺杂C-H薄膜的组成,结构和性能的影响
机译:偏置电压对磁控溅射制备的TiAl掺杂a-C:H薄膜结构和性能的影响
机译:不同中间层和偏压对反应性d.c.制备的a-C:H和a-C:H:Me涂层性能的影响磁控溅射
机译:Ti / A-C和Ti / A-C:H磁控溅射膜的微观结构和摩擦学行为
机译:非垂直入射反应磁控溅射制备的金属氮化物(氮化铝,氮化钛,氮化ha)薄膜的织构演变。
机译:磁控溅射制备CrNx / Ag多层膜的微观结构和力学性能
机译:应用偏压对Ti的组成,结构和性能的影响:Si编码的A-C:H磁控溅射膜的H.