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Influence of Pulsed Fiber Laser Radiation on Surface Morphology and Electrical Properties of Si/SiO2 Structure

机译:脉冲光纤激光辐射对Si / SiO 2 结构表面形貌和电学性能的影响

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摘要

The regularities of microrelief formation on the surface of Si/SiO2 structure under the action of pulsed fiber laser radiation with intensity lower than SiO2 damage threshold are studied. Obtained surface morphology modification accompanied with changes in capacitance-voltage characteristics of modified area.
机译:研究了强度低于SiO 2破坏阈值的脉冲光纤激光辐射在Si / SiO 2结构表面形成微浮雕的规律。获得的表面形态修饰伴随着修饰区域的电容-电压特性的变化。

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