机译:不同能量下氧等离子体辐照Al2O3薄膜的微观结构和355 nm激光诱导的损伤特性
机译:355 nm Al_2O_3 / SiO_2多层介电薄膜单脉冲和多脉冲激光损伤的研究
机译:355 nm小激光束照射下熔融石英不同初始损伤部位的损伤生长特性
机译:掺铝ZnO膜的355 nm和532 nm激光沉积的等离子体特性
机译:薄膜污染对355nm的激光诱导的熔化二氧化硅表面损伤的影响
机译:136 MeV Xenon-136(+26)辐照的铀膜及其背衬材料中辐射损伤的微观结构。
机译:用于制造具有高激光诱导损伤阈值的HfO2 / Al2O3薄膜的原子层沉积
机译:不同能量下氧等离子体辐照Al 2 sub> O 3 sub>薄膜的微观结构和355 nm激光诱导的损伤特性