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Effect of deposition conditions on physical properties of SnO2 thin films prepared using the spray pyrolysis technique

机译:沉积条件对喷雾热解法制备SnO2薄膜物理性能的影响

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摘要

In this study, physical properties of tin oxide thin films, which are prepared using the spray pyrolysis technique, have been analyzed. The effects of substrate temperature and precursor molarity on optoelectrical and structural properties of the films have been investigated. X-ray diffraction analysis revealed a polycrystalline nature with tetragonal structure. It also showed that the preferential growth directions of the films were dependent on the deposition conditions. By using scanning electron microscopy analysis, the surface morphology of the films was observed as an effect of the variation of deposition conditions. The optical and electrical properties of the films were studied by transmission spectra and Hall effect measurement, respectively. Films of about 6 × 10−3 Ω cm resistivity and high visible transparency of about 86% have been obtained at the optimum substrate temperature of 550 °C and precursor molarity of 0.3 mol/L.%Nous analysons ici les propriétés physiques de minces films d’oxyde d’étain préparés par voie de pyrolyse parrnpulvérisation. Nous étudions les effets de la température du substrat et de la molarité du précurseur sur les propriétés électro-rnoptiques et de structure des films. La diffraction X montre une nature polycristalline avec une structure tétragonale. Onrntrouve aussi que les directions préférentielles de croissance du film dépendent des conditions de dépôt. La microscopie électroniquernà balayage permet d’observer la morphologie de la surface des films comme un effet de la variation des conditionsrnde dépôt. Les propriétés optiques et électriques des films sont étudiées respectivement par spectrométrie de transmission etrnpar effet Hall. Des films de résistivité de 6 × 103 U cm et de transparence élevée dans le visible de 86 % ont été obtenus àrnla température optimale du substrat de 550 °C et avec une molarité de précurseur de 0,3 mol/L.
机译:在这项研究中,已经分析了使用喷雾热解技术制备的氧化锡薄膜的物理性能。研究了衬底温度和前体摩尔浓度对薄膜的光电和结构性质的影响。 X射线衍射分析显示具有四方结构的多晶性质。还表明膜的优先生长方向取决于沉积条件。通过使用扫描电子显微镜分析,观察到膜的表面形态是沉积条件变化的影响。通过透射光谱和霍尔效应测量分别研究了薄膜的光学和电学性质。在最佳基板温度550°C和母体摩尔浓度为0.3 mol / L的条件下,已获得约6×10-3Ωcm电阻率和约86%的高可见光透明性的膜。高温分解法电影《结构性电影》和《电影制片人》杂志的《电影原理》 La衍射X montre une自然多晶体avec une结构tétragonale。 dépendentdes conditioned dedépôt影片制作公司的法国电影指导委员会(Onrntrouve aussi que les)的指示。观察表面形貌变化的薄膜观察器,可满足条件变化的要求。最佳影片和电子电影放映厅,光谱传输和光谱分会。 6×103 U cm的电影胶片和可见光的透明性在550°C时达到最佳的稳定状态,且温度在0.3 mol / L时达到最佳摩尔浓度。

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