机译:在化学清洁之前暴露于人造日光或UV辐射(A,B或C):一种有效的组合,可去除花岗岩中的营养缺陷
Univ Vigo, Escola Enxenaria Minas & Enerxia, Dept Enxenaria Recursos Nat & Medio Ambiente, Vigo, Spain;
Univ Santiago de Compostela, Fac Farm, Dept Edafol & Quim Agr, Santiago De Compostela, Spain;
Ultraviolet light; chemical cleaning; biofilm; cultural heritage; biofilm treatment; benzalkonium chloride;
机译:在化学清洗之前暴露于人造日光或UV照射(A,B或C):用于从花岗岩中除去光学胶质的有效组合
机译:以前的物理化学应力暴露和随后的大肠杆菌O157:H7在椰子液体胚乳中的UV-C抗性
机译:高纯臭氧暴露和紫外线辐射清洁超高纯铁表面的新方法
机译:紫外线曝光前紫外线可固化PUD和低聚物的聚结和膜形成性能
机译:在有或没有紫外线照射下通过催化氧化过程去除at去津的动力学和机理
机译:暴露于非极端太阳紫外线下:光谱表征对皮肤的影响和光保护
机译:通过高纯度臭氧暴露和紫外线照射清洁超高纯铁表面的新方法
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