...
首页> 外文期刊>Вопросы атомной науки и техники серия: Физика радиационного воздействич на радиоэлектронную аппаратуру >МОДЕЛИРОВАНИЕ ТОКОВ УТЕЧКИ В ЦИФРОВОЙ СХЕМЕ DS18B20 ПРИ ГАММА-ОБЛУЧЕНИИ: ПРИМЕР ИСПОЛЬЗОВАНИЯ МОДЕЛИ ГЛОБАЛЬНЫХ УТЕЧЕК В КМОП ИС
【24h】

МОДЕЛИРОВАНИЕ ТОКОВ УТЕЧКИ В ЦИФРОВОЙ СХЕМЕ DS18B20 ПРИ ГАММА-ОБЛУЧЕНИИ: ПРИМЕР ИСПОЛЬЗОВАНИЯ МОДЕЛИ ГЛОБАЛЬНЫХ УТЕЧЕК В КМОП ИС

机译:在GA18辐射过程中模拟DS18B20数字电路中的泄漏电流:在CMOS IC中使用全局泄漏模型的示例

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

Using the analytical model of global current leakage under STI insulating oxides of CMOS 1С are described the experimental dose dependencies of leakage currents in DS18B20 digital circuit, obtained under various irradiation conditions: for different values of radiation dose rates, for different irradiation temperatures and for various electrical modes. The modelling shows that the used model very successfully describes all observed experimental dependences. In addition, it is established that the model is capable of describing the differences observed when irradiating CMOS 1С at different sources of ionizing radiation, in particular, at 10 keV X-rays and gamma radiation. It is also shown that the model can be effectively used as a preliminary predicting of CMOS 1С hardness at the stage of their technological design.%С помощью аналитической модели глобальных токовых утечек под STI изолирующими окислами КМОП ИС описываются экспериментальные дозовые зависимости токов утечки в цифровой схеме DS18B20, полученные при различных условиях облучения: для различных значений мощностей доз облучения, для разных температур облучения и для различных электрических режимов. Моделирование показывает, что используемая модель весьма успешно описывает все наблюдаемые экспериментальные зависимости. В дополнение к этому установлено, что модель способна описывать различия, наблюдаемые при облучении КМОП ИС на разных источниках ионизирующего излучения, в частности при рентгеновском (10 кэВ) и гамма-облучении. Показано также, что модель может быть эффективно использована как средство предварительного прогнозирования стойкости КМОП ИС на этапе их технологического проектирования.
机译:使用CMOS1С的STI绝缘氧化物下的整体漏电流分析模型,描述了DS18B20数字电路在各种照射条件下获得的漏电流的实验剂量依赖性:对于不同的辐射剂量率值,不同的照射温度和不同的照射条件电气模式。建模表明,所使用的模型非常成功地描述了所有观察到的实验依赖性。此外,可以确定的是,该模型能够描述在不同电离辐射源(尤其是10 keV X射线和伽马射线)照射CMOS1С时观察到的差异。它也表明,该模型可以在它们的技术设计阶段被有效地用作CMOS1С硬度的初步预测。%СпомощьюаналитическоймоделиглобальныхтоковыхутечекподSTIизолирующимиокисламиКМОПИСописываютсяэкспериментальныедозовыезависимоститоковутечкивцифровойсхеме DS18B20,полученныеприразличныхусловияхоблучения:дляразличныхзначениймощностейдозоблучения,дляразныхтемпературоблученияидляразличныхэлектрическихрежимов。 Моделированиепоказывает,чтоиспользуемаямодельвесьмауспешноописываетвсенабледиееныеэксее Вдополнениекэтомуустановлено,чтомодельспособнаописыватьразличия,наблюдаемыеприоблученииКМОПИСнаразныхисточникахионизирующегоизлучения,вчастностиприрентгеновском(10кэВ)игамма-облучении。 Показанотакже,чтомодельможетбытьэффективноиспользованакаксредствопредварительногопрогнозированиястойкостиКМОПИСнаэтапеихтехнологическогопроектирования。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号