机译:正常发病率下ar +离子轰击下的光致抗蚀剂表面的形态的能量依赖性
Univ Sci & Technol China Natl Synchrotron Radiat Lab Hezuohua South Rd 42 Hefei 230029 Anhui Peoples R China;
Leibniz Inst Surface Engn Permoserstr 15 D-04318 Leipzig Germany;
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机译:在正常和近常发病率下,低能量Ar〜+离子轰击产生的光致抗蚀剂表面上的纳米孔形态
机译:低能正入射Ar〜+离子轰击过程中Si(100)表面形态演变的过渡行为
机译:能量分别为100和400 eV的CF〜+,CF_2〜+,CF_3〜+和Ar离子束轰击对光致抗蚀剂表面改性的影响
机译:离子束溅射法制备的Fe膜表面形貌与Ar离子轰击衬底能量的相关性研究
机译:低能离子轰击硅和锑化镓期间的表面形貌演变。
机译:Ar +离子辐照几层石墨烯表面后出现异常的表面和边缘形态sp2到sp3的杂化转变和电子损伤
机译:熔融二氧化硅表面的露天形态由AR +离子轰击与MO共沉积
机译:离子诱导溅射的能量依赖性在正常入射时由单原子固体产生