机译:在真空中加热的多晶钨表面产生的热正离子和电子发射的平均功函数之间的热电子对比度:理论与实验之间的比较
Department of Chemistry, Faculty of Science, Ehime University, Bunkyo-cho 2-5, Matsuyama 790-8577, Japan;
thermionic contrast; work function; thermal positive ion emission; monocrystalline metal surfaces; tungsten;
机译:加热用于正离子和电子发射的多晶耐高温金属的有效工作功能
机译:有效的功函数,用于高真空加热的钽的热正离子和电子发射
机译:对多晶金属表面的正离子和电子发射的有效功函数的理论评估
机译:真空加热铱产生的热正离子和电子发射
机译:清洁钨的热电子和光电功函数的比较
机译:钨基热电子发射阴极的功函数和表面稳定性