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机译:FBAR的p-InP(100)衬底上压电ZnO外延膜的沉积和结构特性
Konkuk Univ, Dept Adv Technol Fus, Ctr Emerging Wireless Power Transmiss Technol, Seoul 143701, South Korea;
piezoelectric; semiconductors substrates; ZnO film; THIN-FILMS; SAPPHIRE; GROWTH; PLANE;
机译:在低温下在p-InP(100)衬底上生长的ZnO外延膜的微结构特性
机译:退火对p-InP(100)衬底上生长的ZnO薄膜的微结构性能的影响
机译:FBAR器件在Pt / Ti / SiN_x / Si衬底上射频磁控溅射ZnO薄膜的沉积和结构特性
机译:外延PBZR_(0.52)Ti_(0.48)O_3和BATIO_3在SRRUO_3 / SRTIO_3(100)底板上制备的BATIO_3薄膜的结构和铁电性能
机译:吸附对外延铜(100)薄膜电子性能的影响
机译:厚度变化对(BaCa)(TiZr)O3外延薄膜的结构介电和压电性能的影响
机译:(100)-/(001)取向的外延Pb(Mg1 / 3Nb2 / 3)O 3-PbTiO3薄膜的晶体结构,电学性质和机械响应,是在金属(100)cSrRuO3∥(100)SrTiO3衬底上生长的有机化学气相沉积