机译:后退火处理对ZnO薄膜结构性能的影响
School of Physical Science and Technology, Lanzhou University, Lanzhou 730000, PR China;
ZnO films; rf reactive sputtering; annealing; microstructure;
机译:衬底温度和退火后处理对溅射沉积ZnO:Al薄膜微结构和电学性能的影响
机译:溅射和后退火过程中氢的引入对ZnO薄膜结构和性能的影响
机译:退火后处理对ZnO / PS纳米复合薄膜微观结构和光学性能的影响
机译:衬底温度和退火后处理对溅射沉积ZnO:Al薄膜微结构和电性能的影响
机译:退火温度对Sol-Gel ZnO薄膜力学性能的影响。
机译:在3C-SiC(111)/ Si(111)基板上进行ZnO(002)薄膜的RF溅射退火后处理和表征
机译:后退火对Eu掺杂ZnO纳米薄膜性能的影响
机译:加工变量对ZnO薄膜结构和性能的影响