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机译:带电粒子轰击和溅射参数对直流反应磁控溅射制备的HfO2薄膜性能的影响
Tsing Hua Univ, Dept Elect Engn, Beijing 100084, Peoples R China;
HfO2; magnetron sputtering; crystalline; charged particle bombardment; HAFNIUM OXIDE; THIN-FILMS;
机译:带电粒子轰击和溅射参数对直流反应磁控溅射制备的HfO_2薄膜性能的影响
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机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:直流反应磁控溅射制备纳米结构多孔ZnO薄膜的表面性能
机译:无定形SnO2:TA薄膜的电气和光学性质,由DC和RF磁控溅射制备:对反应气体类型的影响进行系统研究