机译:Al含量对RF反应磁控溅射制备Cr1-xAlxC薄膜性能的影响
Natl Kaohsiung First Univ Sci & Technol, Inst Engn Sci & Technol, Kaohsiung, Taiwan;
sputtering; chromium carbides; aluminum; THIN-FILMS; CHROMIUM; RESISTANCE; OXIDATION; COATINGS;
机译:溅射参数对射频磁控溅射沉积方法制备的TiO_2薄膜物理性能和光催化活性的影响
机译:氧含量对反应磁控溅射氧化钨薄膜电致变色性能的影响
机译:射频反应磁控溅射制备ZnO薄膜的晶粒生长行为,表面形貌演变,结构和光学性质
机译:生长条件对反应磁控溅射非晶态氧化铬薄膜表面能,光学性能和耐盐腐蚀性的影响
机译:非垂直入射反应磁控溅射制备的金属氮化物(氮化铝,氮化钛,氮化ha)薄膜的织构演变。
机译:直流反应磁控溅射制备纳米结构多孔ZnO薄膜的表面性能
机译:无定形SnO2:TA薄膜的电气和光学性质,由DC和RF磁控溅射制备:对反应气体类型的影响进行系统研究