机译:多层,多材料椭偏测量的评估策略
Res Inst Tech Phys & Mat Sci, H-1525 Budapest, Hungary;
ellipsometry; Levenberg-Marquardt gradient; ellipsometric measurements; GENETIC ALGORITHMS;
机译:从业人员对多层和多参数薄膜结构的椭偏测量的评估策略
机译:使用复杂策略评估椭偏测量
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机译:2nm SiO_2薄膜的厚度评估,椭偏,电容电压和HRTEM测量的比较
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