机译:用于光电应用的单掺杂和共掺杂SnO_2薄膜的合成与表征
Institut de Chimie de la Matiere Condensee de Bordeaux (CNRS-UPR 9048), Universite Bordeaux Ⅰ, 87 avenue du Dr. Albert Schweitzer, 33608 Pessac cedex, France;
antimony and/or zinc-doped tin oxide; sputtering; transparent conducting film;
机译:用于太阳能转换和光电应用的CdO:SnO_2合金薄膜的合成
机译:F掺杂SnO_2喷涂薄膜结构,光电和光致发光性能的Mn掺杂研究,用于光电应用
机译:使用超声波喷射技术制造SnO_2 Q-Dot薄膜用于光电子应用
机译:气溶胶热解技术对Cu掺杂SnO_2薄膜的合成与表征气体传感器应用
机译:氮和碳共掺杂的纳米结构TiO2薄膜:合成,结构表征和光电性能。
机译:光电应用中氧化锌薄膜的合成与表征
机译:用于光电应用的FTO基板上电化学生长的Mg掺杂ZnO薄膜的合成与表征