机译:等离子体下游反应器中短时间等离子体暴露沉积在细粉上的Sio_x结构的重量和化学表征
Institute of Process Engineering, ETH Zurich, Zurich 8092, Switzerland;
plasma-enhanced chemical vapor; deposition (pecvd); particulate substrate; powder flowability; plasma down stream reactor; gravimetric analysis; atr-ftir;
机译:解析用于太阳能电池的等离子体增强化学气相沉积纳米晶体SiO_x层的纳米结构
机译:等离子唐纳反应器中HDPE粉末的短时等离子体表面改性-工艺,润湿性改善和老化效果
机译:高频激发大气压等离子体中沉积的Si和SiO_x膜的表征及其在底栅薄膜晶体管中的应用
机译:电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积沉积SiO_x薄膜的光学和成分分析
机译:在中等压力下在微波等离子体辅助化学气相沉积反应器中对氢基等离子体进行建模。
机译:RF等离子体反应器沉积的热反应膜的制造与表征
机译:通过从特殊改性的细粒粉末喷涂沉积的碳化物 - 金属系统(CR3C2-NICR和WC-CO-CR)涂层
机译:ap基复合推进剂燃速,温度敏感性和稳定性的表征及等离子爆炸法制备的超细铝(alex)与常规铝粉的热行为比较