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机译:254 Nm受激准分子辐射对Sylgard 184聚二甲基硅氧烷进行表面改性并通过接触角测角,红外光谱,原子力和扫描电子显微镜进行表征
University of Alabama in Huntsville, Huntsville, AL, United States;
polydimethylsiloxane; surface modification; excimer; contact angle; wettability; microscopy;
机译:通过X射线光电子能谱,原子力显微镜和接触角测量对膜进行表面改性和表征
机译:总和振动光谱,原子力显微镜和接触角测角法研究聚合物共混物的表面
机译:总和振动光谱,原子力显微镜和接触角测角法研究聚合物共混物的表面
机译:原子力显微镜,扫描电势显微镜与马来酸酐的低密度聚乙烯的接触角表面分析
机译:准分子辐射辐照聚对苯二甲酸乙二醇酯,接触角测角,红外光谱和电渗流表征表面
机译:日常一次性角膜缘隐形眼镜的原子力显微镜和扫描电镜分析
机译:聚乳酸薄膜的降解:通过电容电压,原子力显微镜,扫描电子显微镜和接触角测量进行表征