机译:高温操作的Sige薄膜的电极接触研究
Advanced Manufacturing Research Institute, AIST, Shimo-Shidami, Moriyama-ku. Nagoya 463-8560, Japan;
sige; sputtering; electrode; contact; tlm; high temperature; specific contact resistivity; adhesion layer;
机译:具有金属透明导电氧化物电极的IGZO薄膜晶体管的比接触电阻和接触/半导体界面的XPS研究
机译:用于热电偶在宽温度范围内操作的薄膜接触系统
机译:大工作温度范围内非晶TiTaO薄膜的介电弛豫研究
机译:带底部接触电极的基于PTCDI-C12H25的有机薄膜晶体管的研究
机译:多种操作条件下阻碍旋转生物接触生物膜的微生物的研究
机译:具有固溶处理的金属氧化物半导体和介电膜的可穿戴式1 V工作薄膜晶体管通过低温深紫外光退火在低温下制成
机译:铁电PB(ZrxTi1-X)O3和Srbi2TA2O9膜的电极接触及其对疲劳性能的影响