机译:电感耦合等离子体辅助直流反应磁控溅射在未加热玻璃基板上生长的N掺杂TiO_2薄膜的特性
Shanghai Key Laboratory of Materials Laser Processing and Modification, Shanghai Jiaotong University, 800 Dongchuan Road, Shanghai 200240, PR China School of Materials Science and Engineering, Shanghai Jiaotong University, 800 Dongchuan Road, Shanghai 200240, PR China;
Liaison Center, KinKi University, 3-4-1 Kowakae, Higashi-Osaka, Osaka 577-8502, Japan;
metallic sputtering; N-doped TiO_2; crystallinity; transmission spectra; binding energy;
机译:电感耦合等离子体辅助直流磁控溅射在未加热玻璃基板上金属氧化钛膜的金属溅射生长
机译:电感耦合等离子体辅助脉冲直流磁控溅射合成纯氮掺杂碳薄膜的杀菌处理研究
机译:脉冲直流反应磁控溅射未加热基板上亲水性TiO_2薄膜的制备与表征
机译:脉冲直流反应磁控溅射通过脉冲DC反应磁控溅射在玻璃基板上制造TiO_2薄膜
机译:脉冲直流反应磁控管溅射氮化铝薄膜。
机译:直流磁控溅射过程中衬底偏置对VO2薄膜质量及其绝缘体-金属过渡行为的影响
机译:基板DC偏置电压对镍薄膜结构性能的依赖性,具有磁控溅射,具有电感耦合等离子体辅助的多极磁等离子体限制