机译:脉冲激光沉积技术的物理方面:材料从靶到膜的化学计量转移
Department of Photonics Engineering, Riso Campus, Technical University of Denmark, DK-4000 Roskilde, Denmark;
pulsed laser deposition; PLD; stoichiometry; laser plasma; ion bombardment; sputtering; plume expansion;
机译:掺钇Bi-2212薄膜的红外脉冲激光沉积中材料的化学计量转移
机译:多组分和单组分靶材的脉冲激光沉积硫属硫化物:非化学计量材料转移
机译:由化学计量SMB6靶通过脉冲激光沉积制备的SMB6薄膜的电性能
机译:脉冲激光沉积Si薄膜 - 胶片质量对目标材料和沉积时间的依赖性
机译:通过脉冲激光沉积和化学气相沉积合成新型材料:第一部分:氮化碳薄膜的能量沉积和稳定性。第二部分:一维材料和装置的催化生长。
机译:在钠钙玻璃基板上通过脉冲激光沉积生长的ZnO膜,用于表皮葡萄球菌生物膜的紫外线灭活
机译:脉冲激光沉积技术的物理方面:材料从靶到膜的化学计量转移
机译:用RHEED和aFm技术研究脉冲激光沉积硬质薄膜的光学特性。