机译:表面粗糙度对SiO_2 / Si超薄结构性能的影响
DEE FEE University of Zilina, Nalepku 1390, 03101 Liptovsky Mikulas, Slovakia;
rnISIR, Osaka University, Mihogaoka 8-1, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan;
rnISIR, Osaka University, Mihogaoka 8-1, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan;
rnISIR, Osaka University, Mihogaoka 8-1, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan;
rnMathematical Institute SAS, Stefanikova 49,814 73 Bratislava, Slovakia;
rnDS AAF of Gen. M.R. Stefanik, Demaenova 393, 03101 Liptovsky Mikulas, Slovakia;
rnInstitute of Physics SAS, Dubravska cesta 9,84511 Bratislava, Slovakia;
semiconductor; thin film; surface roughness; fractal methods; atomic force microscopy (AFM); scanning tunneling microscopy (STM);
机译:HfO_2 / Ultrathin SiO_2 / Si结构的性质及其与KCN溶液中钝化的Si MOS结构的比较
机译:微观结构对车削零件I中表面完整性的影响:微观结构中软相尺寸对表面粗糙度形成的影响
机译:TiN金属栅极对N和PMOSFET中Si / SiO_2表面粗糙度的影响
机译:硼和氟掺入对超薄SiO_2网络结构的影响
机译:Si(111)和MgO(001)表面上超薄铁膜的原子和电子结构
机译:了解纳米结构硒涂层的润湿特性:纳米结构表面粗糙度和气穴形成的作用
机译:2P288支持SiO_2和TiO_2表面上的磷脂双层:表面化学物质和原子结构的影响(40.膜结构,海报会议,EABS&BSJ 2006的会议计划)