机译:磁控溅射非晶Si_2C的热稳定性
Institut fuer Energieforschung und Physikalische Technologien, Technische Universitat Clausthal, Leibnizstrasse 4,38678 Clausthal-Zellerfeld, Germany Institut fuer Metallurgie, Technische Universitat Clausthal, Robert-Koch-Str. 42,38678 Clausthal-Zellerfeld, Germany;
Institut fuer Metallurgie, Technische Universitat Clausthal, Robert-Koch-Str. 42,38678 Clausthal-Zellerfeld, Germany;
Institut fuer Energieforschung und Physikalische Technologien, Technische Universitat Clausthal, Leibnizstrasse 4,38678 Clausthal-Zellerfeld, Germany Clausthaler Zentrum fuer Materialtechnik, Technische Universitat Clausthal, Leibnizstrasse 4,38678 Clausthal-Zellerfeld, Germany;
Institut fuer Metallurgie, Technische Universitat Clausthal, Robert-Koch-Str. 42,38678 Clausthal-Zellerfeld, Germany Clausthaler Zentrum fuer Materialtechnik, Technische Universitat Clausthal, Leibnizstrasse 4,38678 Clausthal-Zellerfeld, Germany;
Institut fuer Energieforschung und Physikalische Technologien, Technische Universitat Clausthal, Leibnizstrasse 4,38678 Clausthal-Zellerfeld, Germany Clausthaler Zentrum fuer Materialtechnik, Technische Universitat Clausthal, Leibnizstrasse 4,38678 Clausthal-Zellerfeld, Germany;
silicon carbide; amorphous films; crystallization; sputter-deposition;
机译:DC / RF反应磁控溅射沉积非晶Zr_(19)W_(18)N_(63)涂层的热稳定性和力学性能的研究
机译:氧浓度对磁控溅射非晶Ta-Ni薄膜热稳定性的影响
机译:反应性直流磁控溅射在不同氧分压下制备的非晶态三氧化钼薄膜的热稳定性
机译:DC-磁控溅射沉积的非晶碳膜的空隙研究:小角度X射线散射和气体热效研究
机译:反应磁控溅射沉积的优化,以及氢在氢化非晶硅基材料中的扩散研究。
机译:磁控溅射沉积非晶碳膜的基体温度相关的微观结构和电子诱导的二次电子发射特性
机译:磁控溅射沉积的WB2和W-B-N膜的热稳定性