机译:用原子层沉积技术研究纯铜上沉积的超薄Al2O3膜中的缺陷
Natl Taiwan Univ, Dept Mat Sci & Engn, Taipei 10617, Taiwan;
Natl Taiwan Univ, Dept Mat Sci & Engn, Taipei 10617, Taiwan;
Natl Taiwan Univ, Dept Mat Sci & Engn, Taipei 10617, Taiwan;
Natl Taiwan Univ, Dept Mat Sci & Engn, Taipei 10617, Taiwan;
Feng Chia Univ, Dept Mat Sci & Engn, Taichung 40724, Taiwan;
Atomic layer deposition; Al2O3 film; Copper; Oxidation; Defect;
机译:原子层沉积生长的超薄Al2O3薄膜中缺陷密度的研究
机译:通过原子层沉积法生长的超薄Al2O3膜用于铜的腐蚀防护
机译:等离子体增强原子层沉积沉积的Al2O3薄膜中的电子捕获和结构缺陷
机译:烧成后等离子体辅助原子层沉积沉积AL2O3薄膜的气泡控制研究
机译:使用原子和分子层沉积技术沉积的无机和杂化有机-无机薄膜的生长,表征和后处理。
机译:0.1 M NaCl中铜上沉积原子层的Al2O3 / TiO2纳米层积薄膜的腐蚀行为研究
机译:等离子体增强原子层沉积沉积的Al2O3薄膜中的电子捕获和结构缺陷
机译:用于射频mEms电容开关的替代介电薄膜,使用原子层沉积的al2O3 / ZnO合金沉积