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机译:晶体取向对单晶铜化学机械抛光的作用
Xi An Jiao Tong Univ, Educ Minist Modern Design & Rotor Bearing Syst, Key Lab, Xian, Peoples R China;
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Crystal orientation; Chemical mechanical polishing; Quasi-continuum method; Single crystal copper;
机译:碳酸胍和晶体取向在钌膜化学机械抛光中的作用
机译:化学机械抛光法抛光的硅单晶亚表层的晶体学变化
机译:H_(2)O_(2)(HNO_(3))-HBr-有机溶剂蚀刻剂组合物对CdTe和Zn_(x)Cd_(1-x)Te单晶的化学机械抛光
机译:等通道角挤压变形的铜单晶的变形结构和晶体取向
机译:单晶氧化铜的光电阈值,工作功能和本体费米能级的研究,以及单晶和多晶氧化铜-铜接触的光电特性。
机译:超声化学机械抛光与超声研磨相结合的单晶碳化硅晶片材料去除及表面生成研究
机译:通过使用抛光{100}和{111}单晶金刚石 化学机械抛光
机译:正电子湮没法测定机械抛光铁单晶的位错密度分布