机译:分子动力学研究衬底温度和Ar离子辅助沉积对非晶TiO2薄膜沉积的影响
Sci & Technol Analog Integrated Circuit Lab, Chongqing 401332, Peoples R China;
Sci & Technol Analog Integrated Circuit Lab, Chongqing 401332, Peoples R China;
Xi An Jiao Tong Univ, Minist Educ, Key Lab Phys Elect & Devices, Xian 710049, Peoples R China;
Film growth; Molecular dynamics; Substrate temperature; Substrate morphology; Assisted ion deposition;
机译:钛离子能量沉积过程中钛离子能量对表面结构影响的分子动力学研究
机译:NEXAFS研究Ar簇离子束辅助沉积形成DLC膜的衬底温度依赖性
机译:通过热线化学气相沉积在塑料基板上低温度沉积非晶和微晶硅膜
机译:Ni_xTi_(1-x)沉积过程中晶体和非晶相的形成,薄膜在硅衬底上的形成-分子动力学模拟对实验结果的解释
机译:通过光子辅助的电子回旋共振化学气相沉积法生长的非晶和微晶硅薄膜,用于异质结太阳能电池和薄膜晶体管。
机译:分子构象在不同衬底温度下真空沉积中红荧烯多晶膜生长中的作用
机译:通过热线化学气相沉积在塑料衬底上低温度沉积非晶和微晶硅膜