机译:射频磁控放电产生的多层Mo2N / CrN涂层的残余应力,力学性能和显微组织性能
Boumerdes Univ, Dept Phys, Res Unite UR MPE, Boumerdes 35000, Algeria;
Arts & Metiers ParisTech LaBoMaP, F-71250 Cluny, France;
Boumerdes Univ, Dept Phys, Res Unite UR MPE, Boumerdes 35000, Algeria;
CDTA, Plasma Discharges Grp, Baba Hassen, Algers, Algeria;
Mo2N and CrN; Multilayer; X-ray diffraction; Residual stress; Nanoindentation;
机译:磁控溅射沉积TiN / Mo2N纳米多层膜的微观结构,力学和摩擦学性能
机译:磁控溅射制备Cr / CRN多层涂层的微观结构,高温腐蚀和蒸汽氧化性能
机译:脉冲直流磁控溅射沉积CrN / TiN多层涂层的力学和摩擦学性能
机译:偏压对单靶磁控溅射制备的CRN涂层微结构和力学性能的影响
机译:通过磁控溅射合成的二硼化钛/碳化钛和氧化钛/氧化铝多层涂层的结构,机械,摩擦学性能和高温稳定性。
机译:磁控溅射制备CrNx / Ag多层膜的微观结构和力学性能
机译:通过R.F磁控排放产生的多层MO 2 N / CRN涂层的残余应力,机械和微观结构性能