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机译:室温下500 keV Ar2 +离子辐照诱导TiO2薄膜中锐钛矿到板钛矿相变和铁磁性
Indian Inst Technol BHU, Sch Mat Sci & Technol, Varanasi 221005, Uttar Pradesh, India;
Utkal Univ, Dept Phys, Bhubaneswar 751004, Orissa, India;
Inter Univ Accelerator Ctr, Aruna Asaf Ali Marg, New Delhi 110067, India;
Indian Inst Technol BHU, Sch Mat Sci & Technol, Varanasi 221005, Uttar Pradesh, India;
TiO2 thin films; Low energy ion irradiation; e-beam evaporation technique;
机译:溶胶-凝胶旋涂法制备的纳米TiO2薄膜的退火温度和铁离子(Fe〜(3+))掺杂量对过渡锐钛矿-金红石相的影响
机译:稀土元素和熵对离子束溅射沉积的TiO2薄膜锐钛矿对金红石相变的作用
机译:1 keV Ar离子束辐照和退火引起的FeRh薄膜表面铁磁态的原位XMCD评价
机译:钴掺杂二氧化钛薄膜中温度诱导相变的研究
机译:Heusler型单晶铁磁形状记忆薄膜的分子束外延生长和相变行为。
机译:Ta合金锐钛矿型TiO2薄膜中空间分离的近藤散射和铁磁性的意外观察
机译:稀土元素和熵对离子束溅射沉积的TiO2薄膜锐钛矿对金红石相变的作用
机译:生长速率调制诱导锐钛矿TiO2薄膜中金属 - 绝缘体的转变。