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机译:拓扑绝缘体Bi2Se3薄膜中的局部光电流产生
Walter Schottky Institut and Physik-Department, Technische Universität München, Am Coulombwall 4a, 85748 Garching, Germany;
机译:拓扑绝缘体Bi_2Se_3薄膜中的局部光电流产生
机译:通过拓扑绝缘体Bi2Se3薄膜通过表面带弯曲通过氧化层提高光致载流子产生效率
机译:Bi2Se3拓扑绝缘体薄膜中过渡金属掺杂剂的局部结构和结合
机译:Thz-LSPR在微结构中的实验证据图案化Bi2Se3拓扑绝缘体薄膜
机译:探测拓扑绝缘体薄膜和拓扑绝缘体/铁磁体(TI / FM)异质结构表面状态的磁传输方法。
机译:通过扫描X射线纳米束显微镜和电子背散射衍射在拓扑绝缘体Bi2Te3和Bi2Se3外延薄膜中进行双畴成像
机译:拓扑绝缘体薄膜中局部光电流的产生 Bi2se3