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Importance of the correct Fermi energy on the calculation of defect formation energies in semiconductors

机译:正确的费米能量对计算半导体中缺陷形成能的重要性

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摘要

Density functional theory (DFT) is a major theoretical tool for the study of defects in semiconductors. However, the results suffer from the often too-small DFT band gap. The calculation of defect formation energy (ΔH) using more sophisticated DFT+GW and hybrid functional methods, however, suggest qualitatively different conclusions about the nature of the DFT error. Here we show that these discrepancies originate from large differences in the representation of the Fermi energy of bulk for the different methods and that they can be largely brought into agreement by correcting the DFT ionization energy.
机译:密度泛函理论(DFT)是研究半导体缺陷的主要理论工具。但是,结果通常会因DFT带隙过小而受到影响。然而,使用更复杂的DFT + GW和混合功能方法来计算缺陷形成能(ΔH),就DFT误差的性质提出了定性不同的结论。在这里,我们显示出这些差异源于不同方法的体积费米能的表示形式的巨大差异,并且可以通过校正DFT电离能在很大程度上达成一致。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2012年第8期|p.082105.1-082105.4|共4页
  • 作者

    West D.; Sun Y. Y.; Zhang S. B.;

  • 作者单位

    Department of Physics, Applied Physics, and Astronomy, Rensselaer Polytechnic Institute, Troy, New York 12180, USA;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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