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机译:正确的费米能量对计算半导体中缺陷形成能的重要性
Department of Physics, Applied Physics, and Astronomy, Rensselaer Polytechnic Institute, Troy, New York 12180, USA;
机译:正确的费米能量对计算半导体中缺陷形成能的重要性
机译:辐照III-V半导体中深本征点缺陷能级的能量位置与有限费米能级之间的相关性
机译:确定半导体中点缺陷的准确缺陷形成能量和电荷跃迁水平的有效方案
机译:窄带隙半导体中深缺陷的形成能和能级
机译:氧化锌及相关材料中缺陷能的第一性原理计算。
机译:半导体中带电缺陷补偿和形成能钉扎的自我调节
机译:半导体中带电缺陷补偿和地层能量钉扎的自我调节
机译:电子态理论和形成能量缺陷复合物,间隙缺陷和半导体晶体生长。