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Controlled bipolar doping in Cu3N (100) thin films

机译:Cu 3 N(100)薄膜中的受控双极掺杂

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摘要

We have fabricated insulating, p- and n-type CuN(100) films on SrTiO(100) by plasma assisted molecular beam epitaxy. By controlling the Cu/N flux rate, p-type doping with 10–10cm in Cu-poor condition and n-type doping with 10–10cm in N-poor condition were obtained without introducing foreign species. Together with formation of insulating CuN films with an optical absorption coefficient of ∼10cm in the photon energy above ∼2.2 eV and an estimated indirect bandgap of ∼1.3 eV, the bipolar doping in CuN films would be promising for solar energy conversion applications.
机译:我们已经通过等离子辅助分子束外延在SrTiO(100)上制造了绝缘的p型和n型CuN(100)薄膜。通过控制Cu / N的通量率,可以在不引入异物的情况下获得在Cu贫状态下10-10cm的p型掺杂和在N贫状态下10-10cm的n型掺杂。形成绝缘的CuN薄膜,在高于约2.2 energyeV的光子能量中具有约10cm的光吸收系数,并且估计的间接带隙约为1.3 eV,CuN膜中的双极掺杂有望用于太阳能转换应用。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2014年第22期|1-4|共4页
  • 作者单位

    Secure Materials Center, Materials and Structures Laboratory, Tokyo Institute of Technology, 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8503, Japan;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-17 13:10:35

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