机译:Milliwatt Power 333 NM基于Algan的紫外线LED在蓝宝石基板上
Ferdinand-Braun-Institut Leibniz-Institut fuer Hoechstfrequenztechnik Gustav-Kirchhoff-Str. 4 12489 Berlin Germany UVphotonics NT GmbH Gustav-Kirchhoff-Str. 4 12489 Berlin Germany;
Institute of Solid State Physics Technische Universitaet Berlin Hardenbergstr.36 10623 Berlin Germany School of Electrical and Computer Engineering Georgia Institute of Technology 777 Atlantic Drive Atlanta Georgia 30332 USA;
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机译:GaN基板上的毫瓦功率350 nm波段四元InAlGaN紫外LED
机译:GaN衬底上的毫瓦功率350 nm波段四元InAlGaN紫外LED
机译:蓝宝石上基于AlGaN的280 nm深紫外发光二极管中的光功率衰减机制
机译:GaN基板上的MilliWatt Power 350 NM波段四月型紫外线LED
机译:氮化镓/蓝宝石界面和蓝宝石衬底上缓冲层的TEM表征通过MOCVD。
机译:蓝宝石衬底上具有纳米尺度厚AlN成核层的高质量无裂纹AlN薄膜的异质外延生长用于基于AlGaN的深紫外发光二极管
机译:具有纳米级厚的Aln成核层对基于Algan的深紫外发光二极管的纳米级厚的Aln成核膜的高质量和无裂缝Aln膜的异质生长