机译:低温等离子体蚀刻工艺后CdHgTe导电类型的转换
Rzhanov Institute of Semiconductor Physics SB RAS Acad. Lavrentiev ave. Novosibirsk 630090 Russia;
机译:工业电感耦合等离子体沉积工具中用于硅晶片太阳能电池表面钝化的低温氢等离子体刻蚀工艺的研究
机译:低温等离子渗碳后低温等离子渗氮处理时间和温度对AISI 316L不锈钢表面性能的影响
机译:降低温度下氟碳等离子体中超低k材料的损伤和蚀刻
机译:在低温条件下在CF_3Br和CF_4等离子体中对多孔低k膜进行低损伤等离子体刻蚀
机译:纳米级处理中的等离子体表面相互作用:通过硅选择性保留低k完整性和高k栅堆叠蚀刻。
机译:结构和组成对低温处理的P型氧化锡薄膜晶体管性能的影响
机译:粉尘等离子体对超低频射频等离子体刻蚀Si [100]的影响