机译:在外延ZnO层的晶畴边界处选择性掺入杂质的直接证据
Univ Magdeburg, Inst Phys Expt, D-39106 Magdeburg, Germany;
SCANNING CATHODOLUMINESCENCE MICROSCOPY; VAPOR-PHASE EPITAXY; STRAIN RELAXATION; GROWTH DOMAINS; GAN; SPECTROSCOPY; EXCITON; DEVICES;
机译:A面GaN外延横向过生长结构:通过阴极荧光显微镜直接成像的生长域,形态缺陷和杂质掺入
机译:通过氧等离子体热退火ZnO缓冲层改善ZnO外延层的结晶度和光学性能
机译:ZnO缓冲层的结晶度对沉积在c-蓝宝石衬底上的外延(ZnO:Al)/(ZnO:Ga)双层薄膜性能的影响
机译:外延反应器中单晶和多晶硅层选择性和非选择性沉积的研究
机译:氮化铟镓/氮化镓多量子阱和氮化铟镓外延层中的相分离和反转畴边界。
机译:直流磁控溅射性能的改进含保留Ar原子的Al掺杂ZnO多晶膜10nm厚的缓冲层
机译:高品质厚ZnO CVD层的显微镜分析:生长域,应变松弛和杂质掺入的成像