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Influence of Pt addition on the texture of NiSi on Si(001)

机译:Pt添加对Si(001)上NiSi织构的影响

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摘要

We report on the texture of Ni_(1-x)Pt_(x)Si films on Si(001) substrates. X-ray diffraction measurements in Bragg-Brentano geometry appear to indicate that pure NiSi films are randomly oriented, while the addition of Pt was reported to induce an epitaxial alignment. However, detailed texture analysis using pole figure measurements shows that pure NiSi films are in fact strongly textured. The NiSi grains exhibit five different types of preferential orientation. The addition of an increasing amount of Pt gradually changes these five texture components. This texture evolution can be understood on the basis of the expansion of the monosilicide unit cell, caused by the incorporation of Pt.
机译:我们报告在Si(001)衬底上的Ni_(1-x)Pt_(x)Si膜的织构。 Bragg-Brentano几何形状的X射线衍射测量似乎表明纯NiSi薄膜是随机取向的,而据报道Pt的添加会引起外延取向。但是,使用极图测量进行的详细纹理分析表明,纯NiSi薄膜实际上具有很强的纹理。 NiSi晶粒表现出五种不同的优先取向。添加越来越多的Pt逐渐改变了这五个纹理成分。可以基于由Pt的掺入引起的单硅化物晶胞的膨胀来理解这种纹理演变。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2004年第18期|p.3549-3551|共3页
  • 作者

    C. Detavernier; C. Lavoie;

  • 作者单位

    IBM T.J. Watson Research Center, Yorktown Heights, New York 10598;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 应用物理学;
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 03:23:15

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