机译:绝缘子表面硅的粗糙度和稳定性
Institut fur Festkorperphysik, Universitat Hannover, Appelstraβe 2, D-30167 Hannover, Germany;
机译:绝缘子表面硅的粗糙度和稳定性
机译:绝缘体上具有表面粗糙度的空穴迁移率特性
机译:具有高κ/ SiO_2栅叠层的完全耗尽绝缘体上硅器件中的远程表面粗糙度散射
机译:在Fowler-nordheim的逐步湿法蚀刻期间氧化物表面粗糙度在彼得·诺德海姆的逐步湿法蚀刻型二氧化硅薄膜期间循环湿法施用氮二氧化硅膜表面粗糙度
机译:表面粗糙度和界面层对(3)碳-碳化硅/硅的IR反射率的影响。
机译:具有亚纳米表面粗糙度的绝缘体波导上的长低损耗铌酸锂
机译:具有高kappa / SiO2栅叠层的完全耗尽绝缘体上硅器件中的远程表面粗糙度散射