机译:非掺杂In_2O_3中n型电导率的起源
School of Science and Technology, Kwansei Gakuin University, 2-1 Gakuen, Sanda, Hyogo 669-1337, Japan;
机译:未掺杂In_2O_3薄膜中高电导率的表面起源
机译:标称无掺杂InlSI中n型电导率的起源
机译:电场对未掺杂n型外延GaN中持久光电导的影响
机译:未掺杂的N型ZnO薄膜中的持续光电导性
机译:MBE生长的n型氮化镓中的接触特性和持久的光电导效应。
机译:在Berkovich和平坦尖端压痕下的未掺杂n型GaAs的力学行为
机译:标称无掺杂InN中n型电导率的起源