机译:沿非极性(1120)方向在块状GaN衬底上生长的GaN / AlGaN同质外延量子阱中的自由和束缚激子
Institute of High Pressure Physics, Polish Academy of Sciences ul. Sokolowska 29/37, 01-142 Warsaw, Poland;
机译:在通过横向外延过生长制备的GaN上生长的非极性(1120)AlGaN / GaN量子阱中提高了量子效率
机译:通过横向外延过生长制备的GaN模板上生长的非极性(1120)InGaN / GaN多量子阱中的激子动力学
机译:通过使用横向外延过度生长技术降低非极性(1120)AlGaN / GaN量子阱中的束缚态和非辐射缺陷密度
机译:GaN epilayers和Algan / GaN多量子孔在Freestading 1100导向GaN基板上
机译:用于AlGaN / GaN和InAlN / GaN二极管以及在硅(111)衬底上生长的高迁移率晶体管的CMOS兼容氧化钌肖特基接触的研究。
机译:使用AlGaN / GaN / AlGaN量子阱电子阻挡层的AlGaN / GaN HEMT中的高击穿电压
机译:非极性垂直GaN-On-GaN P-N二极管在自由站立$(10 bar {1} 0)$ M平面GAN基板上生长