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General theory of acceptor-oxygen-vacancy complex single donor in high-dielectric-constant metallic oxide insulators

机译:高介电常数金属氧化物绝缘子中受体-氧-空位复合单给体的一般理论

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摘要

Previously, we showed experimentally that Si/O-vacancy complex single donors and C/O-vacancy complex single donors in tantalum oxide films have smaller ionization energies than the first ionization energy of O-vacancy double donors [W. S. Lau, L. L. Leong, T. Han, and N. P. Sandier, Appl. Phys. Lett. 83, 2835 (2003)]. In this letter, a theory based on a larger electron orbit for acceptor O-vacancy complex single donors compared to the O-vacancy double donors is proposed to explain the physics behind our previously reported experimental observation and why Si or C may cause an increase in leakage current in tantalum oxide films.
机译:以前,我们通过实验表明,钽氧化物薄膜中的Si / O空位复合单给体和C / O空位复合单给体比O空位双给体的第一电离能具有更小的电离能。 S. Lau,L. L. Leong,T. Han和N.P. Sandier,Appl。物理来吧83,2835(2003)]。在这封信中,提出了一种基于与O-空位双供体相比受体O-空位复杂单供体更大的电子轨道的理论,以解释我们先前报道的实验观察背后的物理学原理,以及为什么Si或C会导致O的增加。氧化钽薄膜中的泄漏电流。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2005年第15期|p.152107.1-152107.3|共3页
  • 作者

    W. S. Lau; Taejoon Han;

  • 作者单位

    Nanyang Technological University, School of Electrical and Electronic Engineering, Block S2.1, Nanyang Avenue, Singapore 639798, Republic of Singapore;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 应用物理学;
  • 关键词

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