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【24h】

Electrostatically gated Si devices: Coulomb blockade and barrier capacitance

机译:静电门控Si器件:库仑阻塞和势垒电容

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摘要

Using a device resembling a nano-charge-coupled-device and measuring the Coulomb blockade, we show how the Coulomb blockade degrades with increasing barrier conductance. To explain this behavior, we identify a new parameter, the "barrier capacitance." This parameter can be used to elucidate information about the energy barrier under a gate with a size of a few tens of nanometers.
机译:使用类似于纳米电荷耦合器件的器件并测量库仑封锁,我们展示了库仑封锁如何随着势垒电导的增加而退化。为了解释这种行为,我们确定了一个新参数,即“势垒电容”。此参数可用于阐明有关数十纳米的门下的能垒的信息。

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