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【24h】

Influence of d-d transition bands on electrical resistivity in Ni doped polycrystalline ZnO

机译:d-d过渡带对掺Ni多晶ZnO中电阻率的影响

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摘要

We report on the transport and optical properties of Ni doped ZnO polycrystalline samples. Ni doping in ZnO could be achieved to a small concentration (2 mol %). Diffuse reflectance spectroscopy of doped ZnO showed the existence of d-d transition bands at 430, 580, and 655 nm which are characteristic of Ni (II) with tetrahedral symmetry. Resistivity was found to be activated. The value of activation energy of undoped ZnO was about 90 meV. It was found to decrease to 60 meV for Zn_(0.99)Ni_(0.01)O and to 10 meV for Zn_(0.98)Ni_(0.02)O. The decrease in resistivity was found to be in accordance with the impurity d-band splitting model.
机译:我们报告了镍掺杂的ZnO多晶样品的传输和光学性质。可以将ZnO中的Ni掺杂至低浓度(2mol%)。掺杂的ZnO的漫反射光谱表明在430、580和655 nm处存在d-d过渡带,这是具有四面体对称性的Ni(II)的特征。发现电阻率被激活。未掺杂的ZnO的活化能值约为90meV。发现对于Zn_(0.99)Ni_(0.01)O降低至60meV,对于Zn_(0.98)Ni_(0.02)O降低至10meV。发现电阻率的降低符合杂质d带分裂模型。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2006年第22期|p.222111.1-222111.3|共3页
  • 作者单位

    Materials Science Research Centre, Indian Institute of Technology (IIT), Madras, Chennai 600 036, India;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 应用物理学;计量学;
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 03:21:59

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