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Response to 'Comment on 'Direct measurement of minority carriers diffusion length using Kelvin probe force microscopy' ' [Appl. Phys. Lett. 96, 216101 (2010)]

机译:对“使用开尔文探针力显微镜直接测量少数载流子扩散长度的评论” [Appl。物理来吧96,216101(2010)]

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摘要

The above paper described a method, based on Kelvin probe force microscopy, to measure minority carrier diffusion length in semiconductors with high spatial resolution. The author of the comment claim that the effect of surface recombination velocity (SRV) has to be taken into account in applying this method to high SRV cases. The comment stems from the fact that our analysis is one-dimensional (and hence neglects carrier diffusion perpendicular to the surface [(y axis) see Fig. 1 in the manuscript] but as we explain below it is a reasonable approximation for many cases.
机译:上面的论文描述了一种基于开尔文探针力显微镜的方法,用于以高空间分辨率测量半导体中少数载流子的扩散长度。该评论的作者声称,在将该方法应用于高SRV病例时,必须考虑表面重组速度(SRV)的影响。该评论源于以下事实:我们的分析是一维的(因此忽略了垂直于表面的载流子扩散[(y轴),请参见手稿中的图1],但是正如我们下面将要解释的,它在许多情况下都是合理的近似值。

著录项

  • 来源
    《Applied Physicsletters》 |2010年第21期|P.216102.1|共1页
  • 作者

    R. Shikler; Y. Rosenwaks;

  • 作者单位

    Department of Electrical Engineering, Ben-Gurion University, Beer-Sheva 84105 Israel;

    rnSchool of Electrical Engineering, Faculty of Engineering, Tel-Aviv University, Ramat-Aviv 69978, Israel;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 03:18:51

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