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Demonstration of low-loss on-chip integrated plasmonic waveguide based on simple fabrication steps on silicon-on-insulator platform

机译:基于绝缘体上硅平台上的简单制造步骤的低损耗片上集成等离激元波导演示

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摘要

We report the experimental realization of a robust silicon-based plasmonic waveguide structure which can theoretically provide sub-wavelength confinement for E_x- and E_y-polarized surface plasmon polariton modes. Our waveguides exhibit propagation loss as low as 0.2 dB/μm with ~50% coupling efficiency.
机译:我们报告了一个稳健的基于硅的等离激元波导结构的实验实现,该结构可从理论上为E_x和E_y极化的表面等离激元极化子模式提供亚波长限制。我们的波导表现出的传播损耗低至0.2 dB /μm,耦合效率约为50%。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2012年第4期|p.041117.1-041117.4|共4页
  • 作者单位

    Nanophotonics Laboratory, Nanyang Technological University, 50 Nanyang Avenue, Singapore 639798;

    Nanophotonics Laboratory, Nanyang Technological University, 50 Nanyang Avenue, Singapore 639798;

    Nanophotonics Laboratory, Nanyang Technological University, 50 Nanyang Avenue, Singapore 639798;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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