机译:立方材料界面失配位错的形成机理
CIMAP, CNRS UMR 6252, 6, Boulevard du Marechal Juin, 14050 Caen Cedex, France;
CIMAP, CNRS UMR 6252, 6, Boulevard du Marechal Juin, 14050 Caen Cedex, France;
Institute of Physics, PAS, AL. Lotnik 6w 32/46, 02-668 Warszawa, Poland;
CIMAP, CNRS UMR 6252, 6, Boulevard du Marechal Juin, 14050 Caen Cedex, France;
IEMN, UMR-CNRS 8520, BP 60069,59652 Villeneuve d'Ascq Cedex, France;
IEMN, UMR-CNRS 8520, BP 60069,59652 Villeneuve d'Ascq Cedex, France;
IEMN, UMR-CNRS 8520, BP 60069,59652 Villeneuve d'Ascq Cedex, France;
机译:二维材料中界面失配位错形成的临界厚度
机译:InN / GaN(0001)界面的三周期部分失配位错:Ⅲ-N材料的新位错核心结构
机译:具有界面应力和界面弹性的各向异性异种材料错配位错周围的应力和位移场
机译:ZnSxSe1-x / GaAs界面上螺旋型错配位错的形成
机译:位于锑化镓/砷化镓界面的周期性错配位错阵列的结构,电学表征和模拟
机译:建模通过精确电子通道对比成像获得的位错对比以表征散装材料中的变形机制
机译:接口临界厚度以二维材料的界面错位错位形成
机译:应变外延层中线程位错逮捕的判据及其路径中的界面错配位错