机译:通过光电容法直接测量金属/ Al_2O_3 / AlGaN / GaN中绝缘体/ AlGaN界面上的施主样界面态密度和能量分布
Institute of Physics-Center for Science and Education, Silesian University of Technology,Krzywoustego 2, 44-100 Gliwice, Poland;
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Research Center for Integrated Quantum Electronics, Hokkaido University, Kita-13 Nishi-8,Kita-ku, 060-8628 Sapporo, Japan;
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机译:Al_2O_3 / AlN / AlGaN / GaN金属-绝缘体-半导体异质结构中界面俘获截面的俘获截面对活化能的指数依赖性
机译:具有Al_2O_3或AlTiO栅极电介质的AlGaN / GaN金属-绝缘体-半导体器件中的绝缘体-半导体界面固定电荷
机译:通过低温外延生长ALN改善界面状态密度,用于AlGaN / GaN金属 - 绝缘体 - 半导体二极管
机译:一种新方法,用于确定电容 - 电压和光电码边光强度测量金属/绝缘体/ GaN结构中界面状态密度全能分布的新方法
机译:GaN-SiC界面处具有GaN微坑的AlGaN / GaN HEMT中的散热分析
机译:二维电子气上的供体样表面陷阱以及AlGaN / GaN HEMT的电流崩塌
机译:通过光电容法直接测量金属/ Al2O3 / AlGaN / GaN中绝缘体/ AlGaN界面上的施主样界面态密度和能量分布