机译:脉冲激光沉积Cu_2SnS_3薄膜的温度依赖性光反射研究
Tallinn University of Technology, Ehitajate tee 5,19086 Tallinn, Estonia;
Tallinn University of Technology, Ehitajate tee 5,19086 Tallinn, Estonia;
Tallinn University of Technology, Ehitajate tee 5,19086 Tallinn, Estonia;
Tallinn University of Technology, Ehitajate tee 5,19086 Tallinn, Estonia;
DTU Nanotech, Technical University of Denmark, DK-2800 Kgs. Lyngby, Denmark;
DTU Fotonik, Technical University of Denmark, DK-4000 Roskilde, Denmark;
DTU Nanotech, Technical University of Denmark, DK-2800 Kgs. Lyngby, Denmark;
DTU Fotonik, Technical University of Denmark, DK-4000 Roskilde, Denmark;
机译:脉冲激光沉积和氮离子束辅助脉冲激光沉积产生的B-C-N体系薄膜的纳米结构研究
机译:背景气氛和衬底温度对Sr的影响:Bi3 +(0.2mol%)薄膜,采用不同激光器生产的脉冲激光沉积
机译:沉积温度对飞秒脉冲激光沉积CO_50Fe_50薄膜形貌和磁性的影响
机译:脉冲激光沉积在不同基板温度下制造的ZnS薄膜的性质研究
机译:脉冲激光沉积生产的薄膜半导体二硅化铁的生长和性能。
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:脉冲激光沉积Cu2sns3薄膜的温度依赖性光反射研究