机译:Si_(1_ x)Ge_(x)纳米线中的电子结构和电子迁移率
STMicroelectronics, 850 rue J. Monnet, 38926 Crolles, France , CEA, LEVI, Minatec Campus and Université Grenoble Alpes, 38054 Grenoble, France;
Universite Grenoble Alpes, Institut NÉEL and CNRS, Institut NÉEL, 38042 Grenoble, France;
CEA, LEVI, Minatec Campus and Université Grenoble Alpes, 38054 Grenoble, France;
CEA, INAC-MEM, L_Sim and Université Grenoble Alpes, 38054 Grenoble, France;
STMicroelectronics, 850 rue J. Monnet, 38926 Crolles, France;
Univ. Lille, CNRS, Centrale Lille, ISEN, Univ. Valenciennes, UMR 8520 - IEMN, 59000 Lille, France;
机译:模拟Ge_(0.6)Si_(0.4)量子点的外部晶体结构和电子结构
机译:Si / Si_(1-x)Ge_(x)异质结构中高迁移率二维电子系统的表观金属-绝缘体转变的观察
机译:掺杂Bi和Ag的Mg_(2)Si_(1-x)Ge_(x)化合物的热电性质和电子结构
机译:金属绝缘体2D电子在调制中的掺杂Si / Si_(1-x)Ge_(x)异质结构
机译:用于灵敏检测和柔性电子的生物模板导电聚合物纳米结构:I. DNA模板聚苯胺纳米线,用于快速检测化学物质。二。用于超灵敏生物传感器和柔性电子产品的自掺杂聚苯胺/碳纳米管纳米复合材料
机译:超高迁移率层状氧化物半导体Bi2O2Se中的电子结构和异常坚固的带隙
机译:在缺乏平行传导的情况下,$ Ge_ {0.7} Si_ {0.3} / Ge / Ge_ {0.7} Si_ {0.3} $调制掺杂异质结构的高室温空穴迁移率