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Electronic structure and electron mobility in Si_(1_ x)Ge_(x) nanowires

机译:Si_(1_ x)Ge_(x)纳米线中的电子结构和电子迁移率

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摘要

We investigate the electronic structure and the electron mobility in Si_(1_ x)Ge_x nanowires for relevant orientations (〈001〉, 〈110〉, and 〈111〉) and diameters up to 8 nm based on atomistic models. The calculation of the electronic structure with random distribution of alloy atoms is compared to the virtual crystal approximation. The electronic properties such as the effective mass and the character of the lowest conduction subband are linked with the strong variations of the phonon-limited electron mobility with varying Ge concentrations. The effect of alloy disorder on the mobility is also discussed.
机译:我们基于原子模型研究了相关方向(<001>,<110>和<111>)和直径最大为8 nm的Si_(1_x)Ge_x纳米线中的电子结构和电子迁移率。将具有合金原子随机分布的电子结构的计算与虚拟晶体近似进行比较。电子性质(例如有效质量和最低导通子带的特性)与随Ge浓度变化而变化的声子限制电子迁移率的强烈变化有关。还讨论了合金无序性对迁移率的影响。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2017年第5期|052102.1-052102.4|共4页
  • 作者单位

    STMicroelectronics, 850 rue J. Monnet, 38926 Crolles, France , CEA, LEVI, Minatec Campus and Université Grenoble Alpes, 38054 Grenoble, France;

    Universite Grenoble Alpes, Institut NÉEL and CNRS, Institut NÉEL, 38042 Grenoble, France;

    CEA, LEVI, Minatec Campus and Université Grenoble Alpes, 38054 Grenoble, France;

    CEA, INAC-MEM, L_Sim and Université Grenoble Alpes, 38054 Grenoble, France;

    STMicroelectronics, 850 rue J. Monnet, 38926 Crolles, France;

    Univ. Lille, CNRS, Centrale Lille, ISEN, Univ. Valenciennes, UMR 8520 - IEMN, 59000 Lille, France;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 03:13:59

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