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机译:电子背散射衍射的极图分析-一种评估纤维化硅薄膜作为外延晶种层的有效方法
Nagoya Univ, Dept Mat Proc Engn, Nagoya, Aichi 4648603, Japan;
Nagoya Univ, Inst Mat & Syst Sustainabil, Nagoya, Aichi 4648603, Japan;
Nagoya Univ, Inst Mat & Syst Sustainabil, Nagoya, Aichi 4648603, Japan;
Nagoya Univ, Dept Mat Proc Engn, Nagoya, Aichi 4648603, Japan;
机译:激光烧蚀在不同环境中制备的FeTiO3薄膜的卢瑟福背散射/沟道,XRD,XRD极图和AES表征
机译:扫描电子显微镜和能量色散X射线光谱分析,分析了沉积在有或没有硅粘附层的弯曲Ti6Al4V基底上的薄碳膜的基底-薄膜表面横截面
机译:基于超声波无损评估方法的超声波极图与基于有限元多晶模型的极图比较
机译:(001)-在玻璃基质上的激光晶化硅薄膜,作为低温硅表观的导流层
机译:分子电子学中钯种子层上ALD铜薄膜的表征。
机译:逐层原位原子层退火法制备AlN超薄膜的低温原子层外延
机译:使用逆极数字分析电子反向散射衍射(EBSD)数据的新方法
机译:aLE(原子层外延)和mBE(分子束外延)方法在层状Hg(1-x)Cd(x)Te薄膜生长中的应用