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机译:微观拉曼散射研究MOS结构中的应力
Institute of Electron Technology, al. Lotnikow 32/46, 02-668 Warsaw, Poland Institute of Physical Chemistry PAS, Kasprzaka 44/52, 01-224 Warsaw, Poland;
Institute of Electron Technology, al. Lotnikow 32/46, 02-668 Warsaw, Poland;
Institute of Electron Technology, al. Lotnikow 32/46, 02-668 Warsaw, Poland;
Ⅲ-Ⅴ and Ⅱ-Ⅵ semiconductors; metal-insulator-semiconductor structures (including semiconductor-to-insulator); line shapes, widths, and shifts; infrared and raman spectra;
机译:微观拉曼散射作为固体和应力研究中的无损工具
机译:激光打孔结构应力分布的微观拉曼研究
机译:从未掺杂和磷掺杂的(111)同质外延金刚石薄膜进行的微拉曼散射:裂纹的应力成像
机译:通过微拉曼散射研究Aln空气桥梁的应力和晶体质量
机译:使用微拉曼测温和尖端增强拉曼光谱研究薄膜热传输。
机译:使用X射线和中子散射技术研究透明导电氧化物中的缺陷结构
机译:siGe器件结构和声子中机械应力的微拉曼研究
机译:使用微拉曼光谱表征GaN-on-sapphire微机电系统(mEms)结构中的应力