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机译:直拉法生长硅晶体的技术发展
Research Institute for Applied Mechanics, Kyushu University, 6-1, Kasuga-koen, Kasuga 816-8580, Japan;
liquid-solid interfaces; growth from solutions; convection and heat transfer;
机译:硅晶体在直拉生长过程中氧输运模型的建立
机译:横向磁场应用切克劳斯基方法分析晶体生长过程中硅熔体-晶体界面处杂质的局部偏析
机译:乌克兰NAS单晶研究所采用Czochralski方法开发光子单晶生长技术的信息
机译:用Czochralski技术在磁硅单晶生长期间零高斯平面位置对晶体熔体界面氧浓度的影响
机译:通过涡流技术原位确定切克劳斯基硅晶体生长过程中的热分布。
机译:滑液中的含硅颗粒:扫描电子显微镜与分析技术相结合可以轻松识别和区别于病理相关的晶体。
机译:连续Czochralski生长的先进方法的开发。用于低成本硅太阳能阵列项目的大面积硅片任务的硅片生长开发。第二季度进度报告,1978年1月1日 - 1978年3月17日
机译:连续Czochralski生长的先进方法的发展。低成本硅太阳能电池阵项目大面积硅片任务的硅片增长发展。 1977年10月4日至12月30日的第一季度进展报告