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Post-thermal-Induced Recrystallization in GaAs/Al0.3Ga0.7As Quantum Dots Grown by Droplet Epitaxywith Near-Unity Stoichiometry

机译:液滴外延生长的GaAs / Al0.3Ga0.7As量子点中的后热诱导重结晶具有近统一的化学计量

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摘要

Here, we investigate the stoichiometry control of GaAs/Al0.3Ga0.7As droplet epitaxy (DE) quantum dots (QDs). Few tens of core nonstoichiometries in the Ga(As) atomic percent are revealed in as-grown “strain-free” QDs using state-of-the-art atomic-scale energy-dispersive X-ray spectroscopy based on transmission electron microscopy. Precise systematic analyses demonstrate a successful quenching of the nonstoichiometry below 2%. The control of the chemical reactions with well-controlled ex situ annealing sheds light on the engineering of a novel single-photon source of strain-free DE QDs free of defects.
机译:在这里,我们研究GaAs / Al0.3Ga0.7As液滴外延(DE)量子点(QDs)的化学计量控制。使用基于透射电子显微镜的最新原子级能量色散X射线光谱技术,在成长的“无应变”量子点中,发现Ga(As)原子百分比中的数十种核心非化学计量。精确的系统分析表明,非化学计量比在2%以下的成功淬灭。通过良好控制的非原位退火控制化学反应,为新型无缺陷的无应变DE QD单光子源的工程化提供了启示。

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